磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區(qū)E和磁場(chǎng)B中的電子的運(yùn)動(dòng)方程,
眾所周知,鍍鈦是在高溫,真空鈦金爐內(nèi),鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化,離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負(fù)電荷的不銹鋼板上,從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。這么做不僅僅是為了增加產(chǎn)品的美觀程度,鍍鈦加工服務(wù),也可以很大程度上提升其使用壽命,所以在實(shí)際中得到了廣泛應(yīng)用,成為當(dāng)今公認(rèn)的、能加工硬脆非金屬材料的工具。感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱,金屬鍍鈦加工服務(wù),使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,項(xiàng)城鍍鈦加工服務(wù),可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定,不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低,坩堝材料對(duì)膜導(dǎo)污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設(shè)備復(fù)雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,處理鍍鈦加工服務(wù),到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
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