熒光光譜分析電壓與電流選擇的原則是什么？基于何種原理？在線等

熒光光譜分析(1) 簡(jiǎn)單的說，你對(duì)同一個(gè)樣品在同等條件下多次測(cè)量?？此慕Y(jié)果偏差大不大？不大就說明重現(xiàn)性好。反之則說明重現(xiàn)性差。重現(xiàn)性在XRF中算是很重要的一個(gè)指標(biāo)。(2) 可以字面理解:就是重復(fù)操作,表現(xiàn)出來的性能指標(biāo)(3) 在計(jì)量學(xué)上現(xiàn)在沒有重現(xiàn)性的說法， 只有重復(fù)性和復(fù)現(xiàn)性的說法。重復(fù)性指的是在相同測(cè)量條件下， 對(duì)同一被測(cè)量進(jìn)行連續(xù)多次測(cè)量所得結(jié)果的一致性，重復(fù)性條件包括：相同的測(cè)量程序、相同的觀測(cè)者、在相同的條件下使用相同的測(cè)量?jī)x器、相同地點(diǎn)、在短時(shí)間內(nèi)重復(fù)測(cè)量 。復(fù)現(xiàn)性指的是在改變了的測(cè)量條件下， 同一被測(cè)量的測(cè)量結(jié)果的一致性。

熒光光譜分析金屬總是定量測(cè)不準(zhǔn)，而且偏差較大，特別是cd和pb。請(qǐng)問這是標(biāo)準(zhǔn)曲線做的不好或者制樣有問題，還是儀器本身的限制。(1) 測(cè)金屬的干擾項(xiàng)比較多吧,應(yīng)該是偏差大的原因之一(2) 基體是影響分析穩(wěn)定性的一個(gè)原因。塑膠類基體是CHO，他們對(duì)相關(guān)分析元素干擾影響比較小。金屬就大了。同時(shí)標(biāo)準(zhǔn)樣品質(zhì)量或有無也影響分析的準(zhǔn)確度。61.在以EDXRF儀器檢測(cè)電鍍產(chǎn)品時(shí),測(cè)出Pb含量在同一零件上不同測(cè)點(diǎn)有300~2800PPM不等, (方法:定性半定量; 樣本:SUM24L快削鋼鍍Ni 4~6um;表面以酒精擦拭,每個(gè)零件測(cè)三點(diǎn)),為什么會(huì)有如此大之差距,相關(guān)對(duì)比測(cè)試也做過,還是找不到問題所在.根據(jù)你所說得情況，應(yīng)該是X射線部分穿通鍍層。且鍍層不均勻，所以出現(xiàn)鍍層薄含鉛高，反之含鉛低

熒光光譜分析這是在調(diào)研儀器時(shí)，儀器公司給我的，與大家分享。A下照射式光譜儀的優(yōu)點(diǎn)和缺陷：優(yōu)點(diǎn)：可以分析純液態(tài)樣品；樣品下表面為分析面，液樣受熱后產(chǎn)生的氣泡對(duì)分析無影響。缺陷：分析粉末壓片樣品時(shí)一旦樣品破碎，污染檢測(cè)室、損毀光管！日常分析時(shí)碎屑落在光管Be窗上難于處理，不利于儀器維護(hù)；B上照射式光譜儀的優(yōu)點(diǎn)和缺陷：缺陷：不能分析純液態(tài)樣品；分析液樣只能采用其他方法；優(yōu)點(diǎn)：有利于儀器維護(hù)保養(yǎng)，光管不受損；兩類儀器分析精度沒有區(qū)別。